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ASML中国展示DUV光刻机 可生产7nm及以上制程芯片

2020-11-06 11:44:10 来源 : 快科技

11月5日,世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的企业,由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻机。据悉,该产品可生产7nm及以上制程芯片。

ASML此次也带来了其整体光刻解决方案,包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术,让边缘定位精度不断提高。

ASML中国区总裁沈波接受媒体采访时表示,该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度,对全球客户均一视同仁,在法律法规框架下,都将全力支持。

沈波透露,自30年前进入中国市场以来,ASML已提供了全面的技术和能力来满足中国客户的需求。目前在中国一共为客户提供了700多台装机。在遵守法律法规的同时,ASML全力支持客户和中国集成电路行业的发展。

被问及有没有向中国出口EUV光刻机的打算,他表示,EUV光刻机还在等荷兰政府的出口许可证。ASML必须要在遵守法律法规的前提下进行光刻机出口。“但我们对向中国出口光刻机是保持很开放态度的,我们对全球客户都一视同仁,只要是我们能够提供的技术和设备,我们都会全力支持。”

据了解,目前,市场上光刻机主要分为两种,一种是DUV光源,另外一种是EUV光源。后者相比前者精度更高,但价格也更贵,而且目前全球只有荷兰ASML有能力生产EUV光刻机,而且一年产量还很有限。EUV光刻机售价在1.12亿欧元左右,约合人民币将近10亿。而DUV光刻机价值则是在6亿左右,便宜了40%。

EUV光刻机因为光源是高能紫外线的缘故,一次曝光就可以实现芯片制造,生产效率更高,良品率也远高于DUV光刻机,这为芯片制造商节省了许多的生产成本,也相当于变相提高产能。

相比之下,DUV光刻机生产7nm工艺芯片步骤繁琐,液浸式DUV光刻机需要多次曝光才能达到7nm效果,而每一次曝光都会使产品生产成本大幅提升,良品率也会快速下降。

据悉,ASML目前最先进的EUV(极紫外光)光刻机可生产5nm芯片,iPhone 12所搭载的A14芯片也需要在ASML EUV光刻机支持下生产。

深紫外光(DUV),KrF 准分子激光:248 nm, ArF 准分子激光:193 nm;极紫外光(EUV),10 ~ 15 nm

关键词:ASML DUV光刻机
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